Dot Photo Diode

Micro Dot Photodiode


Die Dot-Diffusions-Fotodiode (Micro Dot Photodiode) ist eine Fotodiode mit völlig neuer Struktur, deren Empfangsbereich in mikroskopisch kleine, punktförmige Diodenübergänge aufgeteilt ist.

Diese eigene Technologie wurde mit dem Excellent New Technology/New Product Award und dem Excellent Technology Award des Kyoto Technology Grand Prize ausgezeichnet; die Mikro-Diffusions-Fotodiodentechnologie wurde zudem für das Förderprogramm der New Technology Development Foundation (Ichimura-Stiftung) ausgewählt. Einzelheiten zu den Auszeichnungen finden Sie auf der Seite Auszeichnungen.

Merkmale

  • Eigene Struktur, bei der der Empfangsbereich in mikroskopisch kleine, punktförmige Diodenübergänge aufgeteilt ist
  • Im Vergleich von Fotodioden mit 1 mm Kantenlänge sinkt die Anschlusskapazität von 20 pF (herkömmliche PD) auf 4 pF
  • Diodenübergangsfläche von 0,002 mm² (0,4 μm² × 5K Stück) gegenüber 1 mm² bei der herkömmlichen PD
Strukturvergleich zwischen herkömmlicher PD und Dot-PD. Bei einer Fotodiode mit 1 mm Kantenlänge ist bei der herkömmlichen PD die gesamte Fläche ein Diodenübergang mit 20 pF Anschlusskapazität, während die Dot-PD mit 0,002 mm² Übergangsfläche auf 4 pF Anschlusskapazität kommt
Strukturvergleich zwischen herkömmlicher PD und Dot-PD

Technology

Struktur und Technologie

Im Vergleich von Fotodioden mit 1 mm Kantenlänge hat die herkömmliche PD einen vollflächigen Diodenübergang (1 mm²) mit 20 pF Anschlusskapazität, während die Dot-PD eine Übergangsfläche von 0,002 mm² (0,4 μm² × 5K Stück) und 4 pF Anschlusskapazität aufweist. Zusätzlich zur niedrigen Kapazität des Empfangsbereichs reduziert die neu entwickelte Abschirmstruktur mit eigener Abschirmverdrahtung das Störrauschen.

Querschnitt der neu entwickelten Abschirmstruktur. Eine Abschirmverdrahtung aus Aluminium reduziert das Störrauschen
Neu entwickelte Abschirmstruktur: Abschirmverdrahtung zur Reduzierung des Störrauschens

Media

Veröffentlichungen

Die DOTPD-Technologie wurde in der Ausgabe Januar 2021 (No. 165) der Wirtschaftszeitschrift „Creative Kyoto M&T“ des Kyoto Industrial Support Center vorgestellt.

Seite aus der Ausgabe Januar 2021 von Creative Kyoto M&T
Creative Kyoto M&T, Ausgabe Januar 2021 (Kyoto Industrial Support Center)

Ein Video zur DOTPD-Technologie ist ebenfalls verfügbar.

Produktflyer (Leistungsübersicht)

  • Bei gleicher Empfindlichkeit mehr als 5-fache Grenzgeschwindigkeit (Vergleich mit eigenen Produkten)
  • Bei gleicher Geschwindigkeit mehr als 5-fache Grenzempfindlichkeit
  • Mehr als 2,2-faches S/N-Verhältnis pro Bandbreite (eigene Messung)
  • Parasitäre Kapazität des Fotodetektor-Elements auf 1/10 oder weniger gegenüber herkömmlichen Lösungen reduziert; elektromagnetische Abschirmung integrierbar
  • Auch im Vergleich zu ICs mit PIN-Fotodioden, die für ihre niedrige Kapazität bekannt sind, nur etwa 1/3 der Kapazität (Ausführung ohne Abschirmung)

Hinweis: Die Zahlenwerte basieren auf den Angaben im Produktflyer „Dot-Fotodetektor-IC mit niedriger Kapazität und integrierter Abschirmung“.

Produktflyer „Dot-Fotodetektor-IC mit niedriger Kapazität und integrierter Abschirmung“
Produktflyer (aktuelle Unterlage)

Applications

Anwendungen

  • Fotodetektor-ICs mit hohen Empfindlichkeitsanforderungen (als Fotodiode mit ultraniedriger Kapazität in verschiedenen Foto-ICs eingesetzt)

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